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    随着时代的进步，需求越来越高，这看上去不复杂的东西，就变的越来越复杂了。

    说的最简单的。

    就是每一年手机芯片的大小基本不变，但里面的线路却越来越复杂，一块体积不大的晶圆上，需要做越来越多的工作，处理更多的指令。

    这就需要，一块芯片上有更多的线路，有更精准和细微的通道。

    而光刻，就成了其中非常重要，同时也是最开始便非常关键的环节。

    光刻技术，决定了这块芯片上，可以做更多的东西。

    而目前国际上最顶尖的技术，已经达到了193nm的光刻技术，如今即使是尼康之类的扛把子，也还在研究如何突破193nm的技术。

    和后世动不动7nm自然是有区别的，但在这个年代，193本身就是一个难以逾越的门槛。

    别看似乎差的很多。

    但国内……

    193是啥？

    不敢想，完全不敢想。

    毕竟停滞了这么多年的光刻技术，别说193nm了，即使是265nm都还是一道巨大的门槛，拦住了很多人。

    “这东西需要一点点的磨，一点点的研发，一点点的钻研。”

    “类似霓虹那边。”

    “无数人力物力和资源全部投入，才能够拿下霸主地位。”

    “至于弯道超车，这条赛道上，根本不存在弯道。”

    “而我们本身就落后了太多，说个不好听的，哪怕是我们现在拿到了人家的技术，让我们研究这个技术，想要赶上他们现在的进度，恐怕都需要几年时间。”

    “几年之后，他们恐怕早就已经突破到了150nm以下了，想要追赶，只能持续不断的努力。”

    “什么弯道超车之类的，根本就不存在。”

    梁思宁叹息着说道。

    虽然不愿意承认，但事实摆在眼前，哪怕是再难以言说，也只能承认。

    国内的技术，对比起海外列强来说。

    差的还有点远。

    “这东西需要硬实力我不否认，但我倒是觉得，硬实力很重要，可也不是不存在弯道超车的可能性。”

    顾修摇摇头，他没给梁老再继续反驳的机会，此刻说道：

    “其实梁老师您之前跟我聊过半导体行业的时候，我就自己看过不少相关的报道。”

    “正好，关于光刻机方面，我正好也看过一些相关的专业报道。”

    “报道上说，目前193nm是很多公司都在头疼的问题。”

    “而根据瑞利方程，r=k1*(λ/ΝΑ)”

    “要降低光刻机分辨率r，就需要降低k1或λ，或者提高na。”

    “而最直接有效的方法，就是降低光源的波长λ……”
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